Sasaran titanium

Target titanium adalah bahan mentah utama yang digunakan dalam proses sputtering deposisi uap fisik (PVD). Partikel berenergi tinggi membombardir permukaannya, memercikkan atom atau ion titanium, membentuk film senyawa titanium atau titanium dengan kemurnian tinggi dan berkinerja tinggi pada substrat.

▸Fitur Inti dan Spesifikasi Teknis:
1. Kemurnian Sangat Tinggi: Tersedia dalam berbagai tingkat kemurnian, dari 99,99% (4N) hingga 99,9999% (6N), target ini memenuhi persyaratan pengotor yang ketat di berbagai aplikasi dan memastikan konduktivitas yang sangat baik, ketahanan terhadap korosi, dan biokompatibilitas.
2. Ukuran dan Berat yang Dapat Disesuaikan: Produksi yang sepenuhnya disesuaikan didukung. Ukuran dan berat maksimum dapat dirancang dan diproduksi untuk memenuhi ruang peralatan pelanggan tertentu, persyaratan proses, dan daya sputtering, sehingga memberikan fleksibilitas proses maksimum.
3. Kemasan Profesional: Dikemas dengan aman dalam peti atau palet kayu, target bernilai tinggi dan berpresisi tinggi ini terlindungi dari kerusakan, kontaminasi, dan perubahan bentuk selama transportasi dan penyimpanan, sehingga memenuhi standar pengiriman industri.

▸Area Aplikasi Inti:
1. Layar LCD (Layar Kristal Cair): Digunakan untuk menyimpan elektroda (seperti gerbang, sumber/saluran) atau lapisan penghalang dalam susunan transistor film tipis (TFT), yang sangat penting untuk menampilkan kinerja dan hasil.
2. Alat Kesehatan dan Implan: Digunakan untuk menyimpan lapisan tipis titanium atau titanium nitrida dengan kemurnian tinggi pada permukaan perangkat medis seperti sambungan buatan, sekrup tulang, implan gigi, dan stent kardiovaskular, yang secara signifikan meningkatkan biokompatibilitas produk, ketahanan aus, ketahanan korosi, dan osseointegrasi.