[#masukan#]
  • PERMINTAAN / INQUIRY HARGA
  • buah
  • Target tembaga
  • Target tembaga

Target tembaga

Kemurnian: 99,999-99,9999%
Ukuran Maksimum: Dapat Disesuaikan
Berat Maksimum: Dapat Disesuaikan
Pengemasan: Peti kayu, kemasan vakum dua lapis, bahan bantalan bagian dalam (PEF)
Aplikasi: Lapisan sputtering

Informasi Pengujian Kemurnian

Target tembaga adalah sumber sputtering padat yang terbuat dari bahan tembaga dengan kemurnian tinggi. Mereka terutama digunakan untuk pelapisan sputtering dalam proses pengendapan uap fisik (PVD), yang mendepositkan film tembaga berkinerja tinggi pada permukaan substrat.

1. Kemurnian Sangat Tinggi: Kemurnian bahan inti dikontrol secara ketat pada 99,999% (5N) hingga 99,9999% (6N). Kemurnian ekstrim ini meminimalkan risiko masuknya kotoran ke dalam film, memastikan film yang disimpan memiliki konduktivitas listrik dan termal yang sangat baik, keuletan, dan stabilitas, memenuhi persyaratan ketat semikonduktor kelas atas, tampilan, dan pelapis optik presisi.
2. Dimensi & Berat yang Dapat Disesuaikan: Kami menawarkan layanan yang dapat disesuaikan. Berdasarkan spesifikasi ruang peralatan sputtering pelanggan dan persyaratan proses spesifik, kami dapat memproduksi target tembaga secara khusus sesuai ukuran dan berat maksimum yang diperlukan, sehingga mencapai efisiensi pelapisan dan pemanfaatan material yang optimal.
3. Kemasan Kuat: Perlindungan rangkap tiga memastikan transportasi yang aman:
Perlindungan Inti: Bahan target dikemas secara vakum dalam dua lapisan untuk secara efektif mengisolasi kelembapan udara, mencegah oksidasi, dan mencegah kontaminasi permukaan.
4. Perlindungan Bantalan: Kemasan vakum diisi dengan bahan bantalan busa mutiara (EPE) berkinerja tinggi untuk menyerap guncangan dan getaran, sehingga mencegah kerusakan fisik.
5. Penguatan Kotak Luar: Lapisan terluar dibungkus dalam kotak kayu kokoh, memberikan dukungan struktural yang kuat dan ketahanan terhadap dampak eksternal, memastikan transportasi global yang aman.
6. Aplikasi Utama: Dirancang untuk proses pelapisan sputtering seperti sputtering magnetron dan sputtering berkas ion. Dalam lingkungan vakum tinggi, partikel berenergi tinggi membombardir material target, mengeluarkan atom tembaga dari permukaan target. Atom-atom ini kemudian diendapkan pada substrat (seperti wafer silikon, kaca, dan film polimer), membentuk film tembaga fungsional yang seragam, padat, dan sangat melekat.

TENTANG KAMI
CRNMC

Ningbo Chuangrun New Materials Co., Ltd. (CRNMC) didirikan pada Juni 2012 dan memiliki lima basis produksi di seluruh Tiongkok. Kami bergerak dalam pemurnian, peleburan, pengecoran, dan pengolahan titanium, nikel, tembaga, niobium, kobalt, dan lainnya dengan kemurnian tinggi, serta memasok berbagai macam logam kelas elektronik seperti kristal elektrolitik kemurnian tinggi, ingot, ingot tempa, bubuk, dan pelat.

Tim kami terdiri dari para ahli industri dan staf dinamis sebanyak 40 profesional dengan latar belakang metalurgi, masing-masing berdedikasi pada industrialisasi material berkualitas tinggi.

Saat ini, perusahaan telah menyelesaikan rantai produksi material super murni untuk memastikan kualitas, pengiriman tepat waktu, dan peningkatan layanan pelanggan.

Semua karyawan berdedikasi dan termotivasi, serta menantikan untuk memenuhi kebutuhan pelanggan.

SERTIFIKASI
  • CRNMC
  • CRNMC
  • CRNMC
PERS & MEDIA